- Intel Foundry 成為首家使用高 NA EUV 技術批量生產邏輯產品的公司。
- 高 NA EUV 技術可提高分辨率和工藝控制，支持更小晶片特徵的圖案化。
- 此技術的商業化標誌著半導體製造的重要進展，為未來工藝節點鋪平道路。
- Intel 與 ASML 的合作促進了高 NA EUV 系統的安裝與驗證。
Intel Foundry 成為首家利用 ASML 的高 NA 極紫外線 (EUV) 光刻技術進行高產量邏輯產品製造及出貨的晶片製造商，這標誌著商業化下一代晶片製造技術的重要步驟。此里程碑適用於一部分 Intel Core Ultra 系列 3 處理器，代號為 Panther Lake，基於公司 Intel 18A 製程節點製造。Intel 表示，特定的 Intel 18A 層次已在其俄勒岡州設施的 ASML 高 NA EUV 平台上雙重驗證，並以與現有 NXE 平台相匹配的產量向客户發貨。
這一公告顯示高 NA EUV 技術從研究和早期測試轉向生產製造。
高 NA EUV 技術的商業化進展
Intel 和 ASML 表示，該技術被用於選定的晶片層次，以收集製造數據並進一步優化系統設置、正常運行時間及生產實施，為未來工藝節點的更廣泛部署做準備。高 NA EUV 是 EUV 光刻的下一次演進，提供更高的分辨率和改進的工藝控制，能夠對越來越小的晶片特徵進行圖案化。該技術預期將幫助半導體製造商構建更密集且更複雜的晶片，同時支持計算和人工智能的未來進步。
ASML 表示，此次部署建立在與 Intel 數十年的合作基礎上，以推進半導體製造。最近的生產里程碑隨著 Intel 在其俄勒岡州 Hillsboro 研究與開發基地安裝行業首個商業高 NA EUV 系統而實現。該公司隨後成為首個安裝並驗證 ASML 第二代 TWINSCAN EXE:5200B 系統的公司，該系統提供更高的產量、改進的重疊精度以及升級的光源。
Panther Lake 處理器在 Intel 18A 上製造，並使用高 NA EUV 技術對選定的晶片層次進行圖案化。Intel 表示，該方法在保持現有平台生產性能的同時，提供了製造經驗。
Intel 與 ASML 的合作關係
ASML 總裁兼首席執行官 Christophe Fouquet 表示：「隨著分辨率的提高和更好的工藝控制，高 NA EUV 的引入標誌著半導體光刻的一個重大進展。我們為能夠促進更小、更密集的圖案化而感到自豪，這將加速人工智能及其他新興技術的發展。」這些公司表示，從生產中獲得的見解將有助於完善系統設置、正常運行時間和製造過程，為未來幾代半導體製造技術的更廣泛應用鋪平道路。
Intel 將此里程碑描述為在大規模商業晶片生產中整合高 NA EUV 的重要一步，同時保持對未來工藝技術的製造靈活性。Intel 高級副總裁兼 Intel Foundry 總經理 Naga Chandrasekaran 表示：「這一里程碑反映了 Intel 和 ASML 之間的緊密技術合作，並展示了高 NA EUV 如何在大規模先進半導體製造中整合。」根據 Intel 的説法，對選定的 Intel 18A 產品層進行高 NA EUV 驗證，允許該公司在評估該技術如何支持具有更高性能、更大晶體管密度和改善製造靈活性的未來工藝節點的同時，
繼續提供生產輸出。隨著 Panther Lake 現在進入高產量生產並使用高 NA EUV，Intel 成為首家出貨商業高產量邏輯產品的公司，展示了下一代光刻技術如何從開發轉向大規模晶片生產。
高 NA EUV 技術對半導體行業的影響
Intel 成為首家大規模生產高 NA EUV 技術的公司，這不僅顯示了其在半導體製造上的領先地位，也標誌著高 NA EUV 技術的商業化進程。這項技術的成功應用將對晶片製造的未來產生深遠影響，尤其是在應對日益增長的計算需求和人工智能應用方面。隨著技術的成熟，半導體行業將能夠生產更高效能和更高密度的晶片，進一步推動科技創新。