- ASML 在半導體設備技術上仍具顯著優勢。
- 中國晶片製造商依賴進口設備，尤其是光刻系統。
- 限制 ASML 工程師的支持可能促進中國國產設備發展。
- 中國光刻生態系統將由多家專業公司協作組成。
外界對中國在國產晶片製造設備方面報導的突破錶示關注，但分析師指出，荷蘭半導體設備巨頭 ASML 仍然保持著顯著的技術優勢。上海的一家國有企業已開始生產浸沒式深紫外（DUV）光刻機，預計今年將生產約五台系統，並在 2027 年前再增加約 20 台。據報導，首批設備將部署於中芯國際（SMIC）、華虹半導體及記憶體芯片製造商長鑫科技（CXMT）。這一里程碑標誌著中國半導體雄心的進一步發展；行業觀察人士表示，商業成功將取決於這些設備能否在長時間內穩定支持高產量的晶片生產。
中國晶片製造的挑戰
媒體報導引用分析師的話，警告生產少量浸沒式 DUV 光刻機與證明其能夠在半導體廠全天候穩定運作之間存在很大差異。DGA-Albright Stonebridge Group 的合夥人兼技術政策負責人保羅·特里奧（Paul Triolo）表示：「生產具有商業可行性的 DUV 浸沒光刻機，並且能夠全年無休運作是非常困難的。」媒體報導還引用了 Jeffries 分析師威廉·比文頓（William Beavington）的意見，強調謹慎，指出中國在浸沒式 DUV 光刻技術的進展的早期聲明後來證實不準確。
他補充道，中國的晶片製造商可能會繼續盡可能購買 ASML 的設備，因為其性能和可靠性已獲得證明。「中國無疑會繼續購買 ASML 的設備，因為其質量顯著優於其他產品。」比文頓表示。
中國仍然在很大程度上依賴進口的半導體製造設備。根據美國銀行的數據，長鑫科技所在的安徽省在 3 月份的半導體設備進口達到 2.26 億美元，超過去年下半年每月平均水平的兩倍。其中，光刻系統佔這些進口的 57%。
美國法案對 ASML 的影響
根據媒體報導，分析師認為，ASML 面臨的更大長期挑戰可能來自華盛頓而非北京。擬議中的《技術管控多邊協調法案》（MATCH Act）將收緊對在被視為戰略競爭對手的國家出售和維修浸沒式 DUV 光刻系統的限制。雖然該法案已獲得美國國會外交事務委員會的通過，但尚未成為法律。「如果 MATCH Act 迫使 ASML 撤走其工程師，中國的浸沒式 DUV 光刻努力將獲得重大推動。」特里奧表示。
分析師進一步指出，限制中國晶片製造商獲得 ASML 工程師、備件及技術支持的能力，可能會加速國產光刻設備的採用和改進。專家們還認為，中國的努力不太可能產生一家與 ASML 相當的公司。相反，中國的光刻生態系統預計將涉及多家專業公司，各自貢獻不同的技術，並在協調的國家努力下進行合作。由於出口管制，中國仍無法獲得世界上最先進的極紫外（EUV）光刻系統，浸沒式 DUV 仍然是目前中國晶片製造商所能獲得的最先進光刻技術。
ASML 在中國市場的持續優勢
儘管中國在國產晶片設備上取得了一定進展，但ASML的技術領先地位仍然穩固。中國晶片製造商對進口設備的依賴顯示出其在高端技術上的不足，特別是在光刻技術方面。即使面對美國的政策挑戰，中國的光刻生態系統仍需多方合作，以提升自身技術能力。這種情況下，ASML的設備仍然是市場上的首選，顯示出其在行業中的重要性和影響力。